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納米圖案硅印章
簡介:

納米圖案硅印章由在單晶硅基板上形成圖案的納米級紋理表面組成。通過反應(yīng)離子蝕刻,具有梯形橫截面的線性凹槽被蝕刻到基板表面,類似于傳統(tǒng)的光柵。蝕刻工藝可為這些凹槽提供不同的周期和深度規(guī)格,以及更復(fù)雜的圖案,例如晶格。II-VI LightSmyth? 納米圖案硅印章是光學(xué)和光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、納米壓印和微流體領(lǐng)域的納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇。

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產(chǎn)品詳情
  • 納米級紋理凹槽表面
  • 可變凹槽周期和凹槽深度
  • 納米光子學(xué)研究應(yīng)用的理想選擇


產(chǎn)品編

周期 (nm)

尺寸 (mm)

線條寬度(nm)

槽深(nm)

單價(元)

16-855

855

12.50 x 12.50

425

200 ±30

5100

16-856

855

25.00 x 25.00

425

200 ±30

10200

16-857

139

12.50 x 12.50

50

50 ±7.5

6200

16-858

139

25.00 x 25.00

50

50 ±7.5

20300





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