近紅外(NIR)線性偏振膜

近紅外(NIR)線性偏振膜由耐用的聚合物基片組成，特別適合從可見光到近紅外(400-2200nm)的成像應(yīng)用。該偏振聚合物薄膜的平均透射率為39%，在760和2200nm的入射隨機(jī)偏振光下的偏振效率大于99.6%。多種矩形尺寸可用于容納從光束直徑較小的低功率NIR激光器到較大LED光束的所有光源。近紅外(NIR)線性偏振膜用于工業(yè)成像和實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用，即減低輸出近紅外激光器和LED的強(qiáng)度，或減少近紅外光電檢測(cè)器記錄的圖像中的眩光。偏振軸標(biāo)記在偏振聚合物膜的保護(hù)性擋板上。

注意:在第一次使用前，請(qǐng)移除保護(hù)罩。

• 特別適合NIR偏振應(yīng)用
•  800-2200nm下的消光比>400:1
• 在各種波長(zhǎng)范圍內(nèi)均擁有高效率
• 采用耐用的聚合物基片
• 消光比:407:1(Average@800-2200nm)
• 波長(zhǎng)范圍(nm):400-2200
• 厚度(mm):0.50
• 涂層:Uncoated
• 透射率(%):Single:29(400-760 nm),39(761-2200 nm)
• Crossed:0.02(400-760 nm),0.11(761-2200 nm)
• Polarization Efficiency(%):99.83@400-760nm 99.63@761-2200nm
• 構(gòu)造:Polarizing Film
• 基底:Polymer Film on TAC
• 工作溫度(°C):-55 to+85(3 hours)
• Transmission,Single(%):29@400-760nm 39@761-2200nm
• Transmission,Crossed(%):0.02@400-760nm 0.11@761-2200nm
• 注意:Protective Film on Both Sides

高對(duì)比度近紅外（NIR）偏光膜

高對(duì)比度近紅外（NIR）偏光膜在可見光和近紅外光譜中可提供出色的對(duì)比度，是傳統(tǒng)玻璃偏光片的經(jīng)濟(jì)型替代品。這些偏光膜設(shè)計(jì)用于在工業(yè)成像應(yīng)用中通過(guò)近紅外光電探測(cè)器幫助管理雜散光和減少眩光。這些偏光膜在近紅外波長(zhǎng)下的對(duì)比度為1,000:1，在可見光下的對(duì)比度為10,000:1，因此具有優(yōu)異的寬帶性能。高對(duì)比度近紅外（NIR）偏光膜在415-1600nm之間具有高透過(guò)率，并且可以很輕松進(jìn)行尺寸切割。這些偏振膜是用于傳感、近紅外成像和短波紅外應(yīng)用的理想選擇。

• 在700Nm-1600nm之間的消光比>1,000:1
• 是近紅外成像應(yīng)用的理想選擇
• 是傳統(tǒng)玻璃偏振片的經(jīng)濟(jì)型替代品
• 另有超寬帶近紅外偏振膜可供選擇
• 涂層:Uncoated
• 消光比:>1000:1(700nm-1600nm)>10000:1 AVG(400nm-800nm)
• 基底:Polymer Film on TAC
• 偏振傳輸(%):532nm:65830nm:701550nm:80S
• 偏振傳輸(%):532nm:0.002830nm:0.041550nm:0.1
• 表面質(zhì)量:80-50
• 厚度(mm):0.50(Nominal)構(gòu)造:Polarizing Film
• 注意:Outer 0.3mm edge is not functional due to loss of transparency during laser cutting
• 波長(zhǎng)范圍(nm):415-1600Heat Resistance(°C x Hours):85 x 500(dry)
• 耐寒性（°C x小時(shí)）:-40 x 500
• 環(huán)境承受能力:DIN ISO 9022-2-10-07;DIN ISO 9022-2-11-05;DIN ISO 9022-2-12-07;DIN ISO 9022-2-14-05;
• 存儲(chǔ)溫度(°C):15-25

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